等离子体制程中特别是蚀刻中经常使用的制程气体，四氟甲烷（ CF4 ，也被称为氟里昂14 ）是在常态下为惰性，但在等离子态形成氟原子及CF2和CF3自由基。这些都具很强的腐蚀性，如CF4和氧气的混合气体作用于二氧化硅上的蚀刻速度比纯氧快5倍。