diener electronic : PACVD 等离子体辅助化学气相沉积


	PACVD 等离子体辅助化学气相沉积等离子体辅助化学气相沉积的缩写。涂层方法为沉积碳化物和氮化物，涉及显着降低温度（ 450-500 ℃ ），等离子化学气相沉积（ 1000 ℃ ）

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